Informujemy, iż nasz sklep internetowy wykorzystuje technologię plików cookies, a jednocześnie nie zbiera w sposób automatyczny żadnych informacji, z wyjątkiem informacji zawartych w tych plikach (tzw. „ciasteczkach”).

Nie można złożyć nowego zamówienia z Twojego kraju. United States

Uwaga: Ostatnie sztuki w magazynie!

4M Pigment baza pigmentowa FA185 aluminium

CSV-4M-FA185-X10

5906735803686

1.2kg

W magazynie

Nowy

2 Przedmiotów

4M jest dwuwarstwowym, rozcieńczalnikowym lakierem nawierzchniowym otrzymywanym poprzez zmieszanie pigmentów z systemu z żywicą wg odpowiedniej receptury. Lakiery bazowe 4M charakteryzują się łatwością aplikacji oraz krótkim czasem schnięcia. Lakier mieszany w stosunku 2:1 z rozcie...

litr

Dodaj do porównania

Wyślij do znajomego

Wyślij do znajomego

4M Pigment baza pigmentowa FA185 aluminium

4M Pigment baza pigmentowa FA185 aluminium

4M jest dwuwarstwowym, rozcieńczalnikowym lakierem nawierzchniowym otrzymywanym poprzez zmieszanie pigmentów z systemu z żywicą wg odpowiedniej receptury. Lakiery bazowe 4M charakteryzują się łatwością aplikacji oraz krótkim czasem schnięcia. Lakier mieszany w stosunku 2:1 z rozcie...

* Pola wymagane

Anuluj

Pozostały czas do zamknięcia dzisiejszego okna wysyłkowego:
01:48:35
Jeśli towar znajduje się w naszym magazynie i złożysz zamówienie teraz, na 99% zostanie one wysłane jeszcze dzisiaj

Opis

4M jest dwuwarstwowym, rozcieńczalnikowym lakierem nawierzchniowym otrzymywanym poprzez zmieszanie pigmentów z systemu z żywicą wg odpowiedniej receptury. Lakiery bazowe 4M charakteryzują się łatwością aplikacji oraz krótkim czasem schnięcia.

Lakier mieszany w stosunku 2:1 z rozcieńczalnikiem.

Produkt należy pokrywać lakierem bezbarwnym.

Produkt przeznaczony jest do stosowania w instalacjach powlekania. Ma zastosowanie przy pokrywaniu metali, tworzyw sztucznych oraz jako wypełnianie aerozoli.

Dane techniczne

Kod producenta HBR-4M0-FA185-X10

Pobierz

Pytania

Brak pytań dla tego produktu, zadaj pytanie jako pierwszy

Zadaj pytanie

*Pole wymagane

*
*
*
*